对于EUV光刻机的研发，困难很多，主要还是在光源这块。

陈怀庆并不急迫，也没有想着说，EUV光刻机在短时间就能够搞定。

他心理的预期，在二十年内研发成功，那就完全的没有问题。

毕竟，EUV光刻机主要用于10纳米以下。

但是也并不是就只有EUV光刻机能够实现10纳米以下制程，像

本章内容字数过少，其他网站可能还在更新中，后续会自动修复。